hp45nmプロセスから導入が開始されるだろう、と言われている半導体製造のためのEUV(Extreme UltraViolet)リソグラフィー装置。日本では、EUVA(技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構)を中心に産学官が共同で開発を進めている。大塚氏のレポートに述べられているように、先日行われたEUV露光技術研究成果報告会では、「世界に追いついた」と言えるだけの成果が報告され、来年には完成予定のα機に向けて、勢いが出てきている印象である。そのような中で、EUVリソグラフィー研究施設を取材する機会が得られた。訪問先は兵庫県立大学高度産業科学技術研究所である。 クライオジェニックXe回転ドラム・ターゲット式LPP光源 はじめに、兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 所長の望月孝晏教授の研究室が紹介された。同研究室では、クライオジェニックXe回転ドラム・ターゲット式LPP光源と、キャピ
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