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「バンドギャップ6.0eV、シリコン(Si)の1.1eV、SiCの3.26eV、GaNの3.4eV などと比べて非常に大きい」「電力損失が理論上SiCやGaNの半分以下」
kazuhooku のブックマーク 2022/04/23 19:54
NTTがAlNトランジスタ、SiCやGaN超えの超低損失パワーデバイスへ「バンドギャップ6.0eV、シリコン(Si)の1.1eV、SiCの3.26eV、GaNの3.4eV などと比べて非常に大きい」「電力損失が理論上SiCやGaNの半分以下」2022/04/23 19:54
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xtech.nikkei.com2022/04/22
NTTは2022年4月22日、窒化アルミニウム(AlN)トランジスタを開発したと発表した。AlNは、次世代パワーデバイスの材料として、NTTなど一部の研究所で基礎研究が進められている。物性上は炭化ケイ素(SiC)や窒化...
39 人がブックマーク・5 件のコメント
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「バンドギャップ6.0eV、シリコン(Si)の1.1eV、SiCの3.26eV、GaNの3.4eV などと比べて非常に大きい」「電力損失が理論上SiCやGaNの半分以下」
kazuhooku のブックマーク 2022/04/23 19:54
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NTTがAlNトランジスタ、SiCやGaN超えの超低損失パワーデバイスへ
xtech.nikkei.com2022/04/22
NTTは2022年4月22日、窒化アルミニウム(AlN)トランジスタを開発したと発表した。AlNは、次世代パワーデバイスの材料として、NTTなど一部の研究所で基礎研究が進められている。物性上は炭化ケイ素(SiC)や窒化...
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