はてなブックマーク - NECが32ナノのLSI多層配線を試作--45ナノノード比で漏れ電流3桁減 https://b.hatena.ne.jp/entry/s/japan.cnet.com/article/20338494/ NECとNECエレクトロニクスは12月12日、32ナノメートル製造プロセスルールでLSI多層配線を試作し、基本性能を検証できたと発表した。新開発の低誘電率（Low-k）層間絶縁膜を適用することで、優れた性能と耐久性を... citora https://b.hatena.ne.jp/citora/20061213#bookmark-3469386 2006-12-13T03:40:47Z 電子技術 IT 科学技術