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東京エレクトロン、imec-ASML 共同高NA EUVラボとの連携のお知らせ | ニュースルーム | 東京エレクトロン株式会社
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東京エレクトロン、imec-ASML 共同高NA EUVラボとの連携のお知らせ | ニュースルーム | 東京エレクトロン株式会社
東京エレクトロン (TEL、東京都港区、社長:河合利樹) は、オランダのフェルドホーフェンにある「imec-A... 東京エレクトロン (TEL、東京都港区、社長:河合利樹) は、オランダのフェルドホーフェンにある「imec-ASML joint high NA EUV research laboratory」(imec-ASML 共同高 NA EUV 研究所。以下、「高NAラボ」) にて、2023年より稼動予定の次世代高NA EUV露光装置 ASML EXE:5000 (開口数NA=0.55) にインライン*する塗布現像装置を導入することをお知らせします。TELは、imec-ASMLと連携して技術開発を進めることにより、お客さまのさらなる微細化へのご要求に対応してまいります。 高NA EUV露光装置は、従来のEUV露光装置を上回る、さらなる微細化対応技術として期待されています。今回、高NAラボに導入予定の当社塗布現像装置は、従来から広く使用され、実績のある化学増幅型レジストや下層膜の対応のみならず、塗布