NIMSと理研、グラフェンシートによる結合量子ドット素子の作製に成功 | エンタープライズ | マイコミジャーナル物質・材料研究機構(NIMS)国際ナノアーキテクトニクス研究拠点の森山悟士独立研究者らは、理化学研究所(理研)の石橋幸治主任研究員らと共同で、炭素原子が蜂の巣状に並んだ原子層1層のシート(グラフェン)を用いて、2つの量子ドットを結合させた2重結合量子ドット素子を作製したことを明らかにした。 研究では、量子コンピュータや単電子エレクトロニクスの基本素子となる量子ドットを2つ結合させた基本的な量子集積回路である2重結合量子ドット素子をグラフェンシート上に作製。。絶縁基板上に取り出した、グラフェンが3層(厚さ:約1nm)のグラフェンシートに対して、電子線ビームリソグラフィ(EBL)と反応性イオンエッチング技術を用いてシートを直接加工。 電子を閉じ込める2つの近接した量子ドット 量子ドットに電流を流すための電極(ソース・ドレイン電極) 量子ドットに閉じ込められた電子のエネルギー状態を制御するゲート
