【450mm編】2018年の量産化が視野に入るも巨額の開発負担

ASML社は2015～2016年にプロセス開発用、2018年に量産用の450mm対応露光装置を市場投入する計画である。ドライ露光と液浸露光、EUV露光のすべての装置で450mmに対応する。（図：ASML社の資料を基に本誌が作成） この動きは、製造装置業界が450mmへの移行を本格化させるキッカケになりそうだ。各社は従来、開発負担が大きい450mmへの移行には二の足を踏んできたが、その状況が変わる。「450mm対応の露光装置がないので、装置開発に必要な技術評価ができない」という言い訳が通じなくなるからだ。つまり、露光装置はエッチング装置や成膜装置などの周辺装置を次々と450mmへ対応させていくための“一番目のドミノ”。Intel社などがまずASML社に白羽の矢を立てた理由もそこにある。 実際、装置メーカーは450mmへの対応に本腰を入れ始めた。装置業界3位の東京エレクトロンは「2016年ごろ