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ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に：「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に（1/2 ... ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に：「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に（1/2 ページ） ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 2023年前半には提供予定
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