【後藤弘茂のWeekly海外ニュース】 AMDアーキテクチャの変化の原因となった7nmプロセスの特性

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atsk 微細化と技術の進歩により、半導体製造装置はより大規模化していく方向ととらえる。半導体製造装置メーカはまだまだ安泰か。

2019/08/03 リンク

BRITAN なるほど、分からんｗｗｗ

2019/08/01 リンク

daishi_n 配線周りは多重露光でマスクコストがかかるので、EUVでワンショットになるとコストが下がり配線も正確にできるので歩留まりも上がるけど、EUV露光装置の初期投資が高い。先端プロセスは実質3社なので導入数が少ないし

2019/07/31 リンク

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gorou56562020/11/11
T-miura2019/08/13
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mntone2019/08/01
BRITAN2019/08/01
TsukiyonoMisaki2019/07/31
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wideangle2019/07/31
daishi_n2019/07/31

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