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キヤノンが半導体露光装置を再加速、AIチップ実装独占しArFも諦めず
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キヤノンが半導体露光装置を再加速、AIチップ実装独占しArFも諦めず
キヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。ArF液浸露光装置やEUV(極端紫外線)露... キヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。ArF液浸露光装置やEUV(極端紫外線)露光装置を事業化できず、オランダASMLやニコンとの開発競争に敗れた同社。ところがここにきて、生成AI(人工知能)を支える先端パッケージング向けの市場を総取りしている。ナノインプリントリソグラフィー装置を発売し、微細化の最先端にも返り咲く(図1)。フルラインナップで王者ASMLに対抗しようと、かつて撤退したArFドライ露光装置も開発を続け再参入の機会をうかがう。 先端半導体にはEUV以外も必要 半導体露光装置の金額ベースの市場シェアは、経済産業省の資料によれば足元でASMLが9割強を占める。同社は台湾積体電路製造(TSMC)や韓国Samsung Electronics(サムスン電子)、米Intel(インテル)などの最先端工場に欠かせないEUV露光装置(波長13.5nm)市場を独占。露光波長別