米国、ＡＳＭＬによる中国への半導体製造装置の販売禁止要請－関係者
Employees at the ASML Holding NV factory in Veldhoven, Netherlands, in 2014. Photographer: Jasper Juinen 米政府はオランダの半導体製造装置メーカー、ＡＳＭＬホールディングが主要装置を中国に販売するのを禁止するようオランダ政府に強く求めている。事情に詳しい複数の関係者が明らかにした。半導体産業での中国の台頭を抑える米政府の取り組みが拡大している。 関係者によれば、ＡＳＭＬに旧式の深紫外線（ＤＵＶ）露光装置を一部販売させないよう米当局者がオランダ当局に働き掛けている。こうした装置は最先端品からすると一世代前に属するが、自動車や電話、コンピューター、ロボットなどに必要な汎用半導体の一部製造ではなお最も一般的に使われている。 ＡＳＭＬは最先端の極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーシステムについては
ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に
ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に：「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に（1/2 ページ） ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 ASMLが、新しいEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。 2023年前半には提供予定
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