半導体開発の「ムーアの法則」は限界か (WSJ.com: Japan Technology)自分が半導体を見始めたのは約10年前くらいだが、ムーアの法則の限界がきそうというのはその頃から話があったと思う。でも技術者が液浸（シリコンウエハーとレンズの間に水を入れて、屈折率を変える手法）や、ダブルパターン（二回プロセスを少しずらして行うことで、線幅を細くする）といった手法を編み出し、現在までも一定続いている。 今後も続くかはわからないが、ただ、現場の方の技術追求によって、ここまで半導体が発達し、自分たちの生活が豊かになっていることは間違いない。本当にそういった方々に敬意。
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