ITmedia +D PC USER：45ナノで知るIntelとAMDの“工場哲学”奇しくも1月27日、IntelとIBMがHigh-k絶縁膜と金属材料を用いたゲート電極（Metal Gate）による半導体製造技術について、それぞれ実用化の目途がたったと発表した。普通に考えて、両社の発表がたまたま同じ日になった、とは思えない。ましてや1月27日は土曜日である。どちらかが、どちらかの発表を察知して、対抗したと考えたくもなる。 今回の場合Intelは、事前説明会を準備し、45ナノメートルプロセスルールのCPU（ファミリーの開発コード名はPenrynという）のダイ写真と概要まで公開したのだから、最初から27日の発表を予定していたと考えてよさそうだ。それに比べてIBMは、今回の発表の詳細については、今後の学会や学会誌で明らかにする、としており、準備不足は明らか。あわてて対抗したと言われてもしょうがない状況だ。 IBMがIntelと同日発表した理由は、おそらくIntelの発表にあっ
