Intelが45ナノ「Penryn」ダイ画像を公開米国時間の1月26日、Intelは45ナノメートルプロセスルール（45ナノプロセス）を採用した5種類のマイクロプロセッサを試作し動作を確認したと発表、あわせてそのダイ写真を公開した。かねてよりIntelは、2007年後半から45ナノプロセスによる量産を開始すると表明しており、その計画に変更がないことを明らかにした。45ナノプロセスによる試作例としては、2006年1月にSRAMチップのサンプルを公開しているが、今回の試作品はマイクロプロセッサであり、着実に実用化が近づいていることがうかがえる。 半導体の微細化は、ゲート絶縁膜を極限まで薄くすることで実現されるが、最新の65ナノプロセスでは原子数個分のレベルにまで到達している。ここまできてしまうとこれ以上薄くすることは難しい。製造プロセスをこれ以上を微細化することが困難であることと同義であるとともにムーアの法則を継続できないということも意味する
