「ムーアの法則」の限界を回避できる期待の製造技術「EUVリソグラフィ」とは？
「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムーアの法則」は、近いうちに終焉を迎えると言われています。この法則を提唱したIntelの創業者の1人であるゴードン・ムーア氏も「トランジスタが原子レベルまで小さくなり限界に達する」と述べているのですが、主要な半導体メーカーは2020年までに「EUVリソグラフィ」の実用化を進めており、数年以内にムーアの法則の限界を回避できる可能性が出てきています。 Leading Chipmakers Eye EUV Lithography to Save Moore’s Law - IEEE Spectrum http://spectrum.ieee.org/semiconductors/devices/leading-chipmakers-eye-euv-lithography-to-save-moores-l
光の性質利用し瞬時に答え 画期的計算法として注目 | NHKニュース
最先端のコンピューターでも計算が難しいとされる、１００億通りを超える膨大な組み合わせの中から、最も適した答えを求める問題を、光の性質を利用することで、瞬時に解くことに日本の研究グループが成功し、次世代コンピューターにつながる画期的な計算手法として注目されています。 この手法は現在のコンピューターのように、一つ一つすべてのケースについて数値計算を行うものではなく、光が持つ物理的な性質を利用して答えを求めようという全く発想が異なるものです。 グループでは全長１キロの光ファイバーの中に、組み合わせを調べたい数だけ、光の粒子を使って一種の磁石を作り出す新たな装置を開発し、「２０００個の点を最もエネルギーを使わずに２つに分ける方法」を解くことに挑戦しました。 この問題では、組み合わせが１００億通りを超え、最先端のコンピューターでも計算が難しいとされています。 実験の結果、新たな装置では２０００個の点
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