"シリコンの表面を30nmだけ酸化し、そこに表面フォノンポラリトンを発生させることができる誘電体を形成"　半導体の電気的性質に影響を与えないのかな

kazeula のブックマーク 2024/05/10 17:29

<blockquote class="hatena-bookmark-comment"><a class="comment-info" href="https://b.hatena.ne.jp/entry/4753267755897627264/comment/kazeula" data-user-id="kazeula" data-entry-url="https://b.hatena.ne.jp/entry/s/pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1590504.html" data-original-href="https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1590504.html" data-entry-favicon="https://cdn-ak2.favicon.st-hatena.com/64?url=https%3A%2F%2Fpc.watch.impress.co.jp%2Fdocs%2Fnews%2F1590504.html" data-user-icon="/users/kazeula/profile.png">半導体の熱問題を解決できる技術、東大が開発</a><br><p style="clear: left">&quot;シリコンの表面を30nmだけ酸化し、そこに表面フォノンポラリトンを発生させることができる誘電体を形成&quot;　半導体の電気的性質に影響を与えないのかな</p><a class="datetime" href="https://b.hatena.ne.jp/kazeula/20240510#bookmark-4753267755897627264"><span class="datetime-body">2024/05/10 17:29</span></a></blockquote><script src="https://b.st-hatena.com/js/comment-widget.js" charset="utf-8" async></script>

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半導体の熱問題を解決できる技術、東大が開発

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