アルバックと三愛プラント工業は,ガス放出量を従来法よりも削減したAl合金向け耐食処理「スーパーアルピカ」を共同で開発した。2006年9月1日から処理の受注を開始する。主に半導体や液晶パネルの製造で利用するCVD装置やエッチング装置などの真空装置に向ける。例えば,室温から300℃程度まで温度を上げた場合に出る水蒸気などのガスの量を,従来法に比べて1/100~1/1000にできるという。ガス放出量が減ることで,真空装置の排気時のポンプへの負担や排気にかかる時間を削減できるとする。
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