オランダのASMLが実用化したEUV露光装置は、従来の露光装置とは大きく異なる機構を採用しており、光学系のコア部品であるフォトマスクはその代表例です。EUVのフォトマスクはレチクルと呼ばれ、反射型の光学系に対応した新しい構造をもっています。 本記事では、EUVのフォトマスク(レチクル)の役割と構造の詳細をご紹介した後、レチクルの材料や検査装置を開発する日本企業としてAGC、HOYA、 レーザーテックの最新動向を紹介します。今後さらに成長するEUV露光装置の市場で活躍したい方はぜひご一読ください。