NYの巨大法律事務所で研修生活を送った日本国弁理士の日々の記録。[真面目な弁理士のNY研修生活]から改題。 米国特許手続きの中で、一番混乱しやすい部分、 それは、Continued Application とContinued Examinationに 関する部分でしょう。 特許に関する(意匠を除く)Continued Applicationには、 以下の3つの出願が含まれます(CFR1.53(b))。 DIV (Divisional Application) MPEP201.06 CA (Continuation Application) MPEP201.07 CIP (Continuation-In-Part) MPEP201.08 また、これらとよく似た趣旨で行う手続きとして、 RCE (Request for Continued Examination) 35USC132, 37C