10nmプロセス以降に焦点、“微細化のその先”も10nmプロセス以降に焦点、“微細化のその先”も：「2016 VLSI Symposia」プレビュー（1/2 ページ） 2016年6月に米国ハワイで開催される「2016 VLSI Symposia on VLSI Technology and Circuits」では、10nm以降のプロセス技術の研究成果も多数発表される予定だが、“微細化のその先”についても、これまで以上に活発な議論が行われるようだ。 「半導体技術の進歩が難しくなり市場をけん引する要素が多様化するのに伴って、半導体のロードマップも変化している」―――。これは、2016年6月に米国ハワイで開催される半導体技術の年次イベント「2016 VLSI Symposia on VLSI Technology and Circuits」でのメッセージだ。 「2016 VLSI Symposia」では、プロセス技術を10nm以下に微細化する
