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「ナノインプリント技術」とは、ナノスケールの凹凸パターンを形成したナノスタンパを樹脂薄膜が塗布された基板に押し当てて、樹脂薄膜に凹凸パターンを転写する成形加工技術です。 従来の半導体リソグラフィのコア技術である光リソグラフィ、電子線直接描画法に比べて簡便・低コストにナノスケールの加工が可能です。 代表的なナノインプリント方式には、「熱サイクル方式」と「光硬化方式」があります。
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NEWS RELEASE -- 2/15
HITACHI : ナノインプリント技術