Intel、NANDの1,000倍高速な不揮発性メモリを開発 ～トランジスタ不要の「3D XPoint」技術
均一性のNECと一点突破の日立 手段と目的を履き違えていた半導体技術文化 | JBpress (ジェイビープレス)
1999年12月にNECと日立製作所のDRAM合弁会社エルピーダメモリ（当時はNEC日立メモリ）ができたときのことである（大変古い話で恐縮ですが）。私は、2000年2月にNEC相模原内のエルピーダ・プロセス開発センターに出向して、同様にNECから出向してきた技術者と一緒にDRAMのプロセス開発を行った。 そのとき、会社が違うと、仕事のやり方がかくも違うものなのかと驚いた。DRAMのプロセスフローは、500工程以上になるが、その各工程で使用する装置が違うとか、そのプロセスの毛色が違うとか、そういったことではない（もちろん、それも違うのではあるが）。プロセス開発の方針と言うか、哲学がまるで違うのである。 簡単に言えば（よく言えば）、NECは「均一性第一主義」であり、日立は「新技術優先主義」であった。悪く言えば、NECは「病的なまでの潔癖完璧主義」であり、日立は「新技術オタクの一点突破主義」であ
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