転写因子Glis1により安全なiPS細胞の高効率作製に成功2011年6月9日 前川桃子助教（ウイルス研究所／iPS細胞研究所／科学技術振興機構（JST）山中iPS細胞特別プロジェクト）と山中伸弥教授（物質－細胞統合システム拠点／iPS細胞研究所／JST山中iPS細胞特別プロジェクト）の研究グループと、五島直樹主任研究員（産業技術総合研究所バイオメディシナル情報研究センター／独立行政法人新エネルギー・産業技術統合開発機構（NEDO）iPS細胞等幹細胞産業応用促進基盤技術開発）の研究グループとの共同研究が英国科学誌「Nature」6月9日号に掲載されました。 研究の概要 従来はiPS細胞（人工多能性幹細胞）を作製するために4つの転写因子（Oct3/4, Sox2, Klf4, c-Myc）を皮膚の細胞に導入していましたが、c-Mycによる腫瘍発生が懸念されていました。また、c-Mycなしでの誘導では、作製効率が低いこともあり、安全なiPS細胞を効率
