京大などが1nmの半導体量子細線を作製 技術開発の鍵は熱帯魚の縞模様京都大学(京大)、東京大学(東大)、科学技術振興機構(JST)の3者は5月8日、独・フランクフルト大学と共同で、塩化ルテニウム(RuCl3)を用い、グラファイト基板上に約1nm(原子数個分)の「ナノ量子細線パターン」を作製する手法を開発したことを発表した。 熱帯魚とナノサイズ量子細線パターン。(出所:京大プレスリリースPDF) 同成果は、京大大学院 理学研究科の浅場智也特定准教授、同・Peng Langポスドク研究員(研究当時)、同・小野孝浩修士課程学生(研究当時)、同・末次祥大助教、同・笠原裕一准教授、同・寺嶋孝仁教授、同・幸坂祐生教授、同・市川正敏講師、同・佐々真一教授、同・松田祐司教授、東大大学院 新領域創成科学研究科の芝内孝禎教授らの共同研究チームによるもの。詳細は、「Science Advances」に掲載された。 半導体の微細加工技術として現在主流のリソグラフィ技術を中心とした
