洗浄工程
(02/19)問題提起 (12/14)MOSトランジスタ電流の式最終版 (12/01)MOSトランジスタ電流の式3 (11/22)アクセス解析 (11/21)MOSトランジスタの電流の式2 (11/19)MOSトランジスタの電流の式1 (10/01)キャパシタのCVカーブ (09/14)閾値電圧 (08/30)直列容量 (08/24)今しばらくお待ちを 最近では定例のようになってしまった週末の休講を経て、再び再開。今回は前回の予告通り洗浄のお話。洗浄工程も半導体プロセスの中では重要な分野で、いまや一大分野を築いている。だから、ちゃんとしたお勉強は専門書で行ってください。まーとにかく歴史が古く、いろいろな変遷があり、複雑である。 さて、洗浄とはそもそも何のために行うのであろう？先日、この講座でもさらりと述べたが、目的とは大きく分けて2つある。 1:パーティクル（ゴミ）を減らす。 2:金属汚染
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http://www.appreciatech.jp/news/pdf/11_semiconnews20051207.pdf
http://www.sijapan.com/issue/2008/04/lo86kc000000084n.html
