洗浄工程
(02/19)問題提起 (12/14)MOSトランジスタ電流の式最終版 (12/01)MOSトランジスタ電流の式3 (11/22)アクセス解析 (11/21)MOSトランジスタの電流の式2 (11/19)MOSトランジスタの電流の式1 (10/01)キャパシタのCVカーブ (09/14)閾値電圧 (08/30)直列容量 (08/24)今しばらくお待ちを 最近では定例のようになってしまった週末の休講を経て、再び再開。今回は前回の予告通り洗浄のお話。洗浄工程も半導体プロセスの中では重要な分野で、いまや一大分野を築いている。だから、ちゃんとしたお勉強は専門書で行ってください。まーとにかく歴史が古く、いろいろな変遷があり、複雑である。 さて、洗浄とはそもそも何のために行うのであろう？先日、この講座でもさらりと述べたが、目的とは大きく分けて2つある。 1:パーティクル（ゴミ）を減らす。 2:金属汚染
神様の半導体講座
ようこそ、神様の半導体講座へ、私は教授のピッコロ大魔王です。 このBlogは企業や大学からのアクセスがほとんどで、全く更新していないにもかかわらず、日々約1000アクセスある。Seesaaが最近改良した管理画面にあるランキングでは2000番台だったりして、こんなマイナー分野で、と、ちょっと驚きだ。 さて、このようなアクセス数を示しているこのBlogをかりて、ピッコロが最近これはひどいと思っている問題を紹介したいと思う。ここに訪れる若い学生諸君や企業で働くエンジニア、研究者さんたちにもぜひ知っていて欲しいと思う。 このような形で専門外のことを述べるのは心苦しいのだが、以下のリンクをエンジニア、研究者魂を持ってじっくり研究してもらいたい。 http://d.hatena.ne.jp/Yosyan/20070218 http://tyama7.blog.ocn.ne.jp/obgyn/2007/
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