サクサク読めて、アプリ限定の機能も多数!
”パーティクルの発生は主に、ガス導入時、圧力変化時、電圧印加時、振動発生時、温度変化時に引き起こされていることを明らかに”
hiroomi のブックマーク 2019/08/15 11:24
歩留まり向上技術 装置内におけるナノサイズのパーティクル発生との闘い | 研究・開発 | 東京エレクトロン株式会社[パーティクル]”パーティクルの発生は主に、ガス導入時、圧力変化時、電圧印加時、振動発生時、温度変化時に引き起こされていることを明らかに”2019/08/15 11:24
このブックマークにはスターがありません。 最初のスターをつけてみよう!
www.tel.co.jp2019/08/15
現在の半導体回路の加工サイズは数ナノメートルから数10ナノメートル程度です。半導体製造装置内で、半導体をつくるシリコン基板上にウィルスより小さいナノサイズの塵(以下、パーティクルと呼ぶ)が落ちただけで...
1 人がブックマーク・1 件のコメント
\ コメントが サクサク読める アプリです /
”パーティクルの発生は主に、ガス導入時、圧力変化時、電圧印加時、振動発生時、温度変化時に引き起こされていることを明らかに”
このブックマークにはスターがありません。
最初のスターをつけてみよう!
歩留まり向上技術 装置内におけるナノサイズのパーティクル発生との闘い | 研究・開発 | 東京エレクトロン株式会社
現在の半導体回路の加工サイズは数ナノメートルから数10ナノメートル程度です。半導体製造装置内で、半導体をつくるシリコン基板上にウィルスより小さいナノサイズの塵(以下、パーティクルと呼ぶ)が落ちただけで...
1 人がブックマーク・1 件のコメント
\ コメントが サクサク読める アプリです /