地道なアプローチ→EUVリソグラフィ…TSMCだけ大量量産に成功することで独り勝ち…パーテイクル分析・発生源データベース構築やその自動化システム開発を含む地味な活動をはじめさまざまな歩留まり向上策の取り組み

mkusunok のブックマーク 2020/08/07 23:31

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なぜTSMCだけEUVプロセスで高い歩留まりを達成できるのか？

news.mynavi.jp2020/08/07

TSMCは、EUVリソグラフィ(EUVL)工程で使用されるEUVマスク上に付着したパーティクル(異物微粒子)の除去に、従来の薬液や純水を大量に使うウエット洗浄プロセスから、より環境にやさしい「ドライクリーン技術(Dry-...

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