“EUV光を、従来のレンズ方式の露光装置で転写しようとすると、レンズや空気中の成分で吸収されてしまい、ウェーハ上のフォトレジストまで届かない。このため”

hiroomihiroomi のブックマーク 2024/03/23 17:11

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半導体の微細化に不可欠なEUV露光技術の現状とこれから | サイエンス リポート | TELESCOPE magazine

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