韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」 ▲京畿道利川市にあるSKハイニックスM16工場の全景/同社提供 SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D(3次元)NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。 【動画】世界シェア首位を誇る韓国製「エッジグラインダー」 半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線(EUV)露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採
![韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」](https://cdn-ak-scissors.b.st-hatena.com/image/square/27dc937554fcc480a857a88f5f82607e7725dd71/height=288;version=1;width=512/https%3A%2F%2Fwww.chosunonline.com%2Fsite%2Fdata%2Fimg_dir%2F2023%2F05%2F05%2F2023050580017_0.jpg)