造れるのはASML1社のみ、難関だらけのEUV露光装置世界では、米Intel（インテル）や韓国Samsung Electronics（サムスン電子）、台湾積体電路製造（TSMC）といった大手半導体メーカーがEUV露光装置を導入して先端半導体デバイスを量産している。一方、3社 のような先端半導体デバイスの製造拠点を持たない日本では、これまで同装置による本格的な量産はなかった＊2。 ＊2 ASMLによると、過去に日本国内で同社のEUV露光装置を運用した実績はある。 ところが近年、風向きが変わり始めた。国内企業の支援を受けて設立された半導体企業Rapidus（ラピダス、東京・千代田） は、北海道の半導体工場にEUV露光装置を導入すると表明した。米Micron Technology（マイクロン・テクノロジー） も広島工場に、同装置を導入する見込みだ。 いよいよ国内にも本格的に導入されるEUV露光装置だが、技術的な特長はどこにあるのか。エーエスエムエル
