AMD RDNA 2はRyzen 6000 APUのRadeon 600Mの統合GPUとして印象づけ、Cyberpunk 2077でGTX 1060に近いパフォーマンスを提供します - 自作ユーザーが解説するゲーミングPCガイド
CPU情報 GPU情報 その他 AMD RDNA 2はRyzen 6000 APUのRadeon 600Mの統合GPUとして印象づけ、Cyberpunk 2077でGTX 1060に近いパフォーマンスを提供します AMDは最近、Ryzen 6000 Rembrandt APUを発表しました。このAPUは、モビリティ・セグメントにおいて業界をリードする効率性を実現し、高い評価を得ています。 Ryzen 6000 APUに含まれる重要な点の1つは、RDNA 2を搭載したRadeon 600M統合GPUで、競合するiGPUやディスクリートGPUと比較しても驚異的なパフォーマンスを発揮することができます。 Ryzen 6000 APUのAMD Radeon 600Mは、RDNA 2の統合グラフィックスの強さを示し、Cyberpunk 2077でGTX 1060に近いパフォーマンスを提供します。 A
韓国企業、半導体EUV工程の主要原料商用化に初成功（THE Korea Economic Daily Global Edition） - Yahoo!ニュース
半導体EUV（極紫外線）工程に使われる核心原料が、韓国で初めて商用化された。半導体の工程原材料の分野で日本や中国への依存度を下げることができると期待される。 20日、半導体業界によると、国内中小企業のジェウォン産業はEUV工程の中核原材料の一つであるプロピレングリコールメチル酢酸（PGMEA）の商用化に成功した。ジェウォン産業は、全羅南道麗水市楽浦洞（ナクポドン）にある自社工場（写真）でPGMEAを量産し、昨年末から、サムスン電子やSKハイニックスの1次協力会社に納品を始めた。 国内で実験室研究でPGMEA開発に成功した事例はあるが、量産に入ったのは今回が初めてだと会社側は強調した。 PGMEAは、半導体用シンナー（thinner）で製造され、EUV露光工程で極紫外線感光反応が起きていない部分についた感光物質（フォトレジスト）を洗い流す役割をする。 露光工程に入る前にウェハーに塗れば、感光
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