「プログラマ35歳定年説」:ITと人間の意外な関係 - CNET Japan
あるサイトで連載の話を進めていて、そのコンテンツを考えていた。目次を書き出しているときにふと「プログラマ35歳定年説」なるものを思い出した。 プログラマ35歳定年説とは、「プログラマは年齢を重ねて行って、35歳ぐらいになったらSEなりマネジメントなり、次に行かないとオマンマ食べられないよ」というものだ。 「そういえば、自分もそう言われてきたっけ・・・。若いころは「俺たちがシステム作ってんだ！実力があれば絶対に大丈夫。ふざけんな！」と思っていたよなぁ。」 ふと考えれば私は今36歳。その説によれば定年を迎えている年齢だ（笑）。年金はもらえないが・・・。 プログラマ、SE、マネジメント、経営の一通りを経験してきて、その説の私なりの考えを書いてみたくなった。 35歳プログラマ定年説は本当か？・・・私にとって かつては技術力に自信があったし、楽しいプログラマ人生を送ってきた。そんな私だが、今もし誰
「日本はWeb 2.0を飛び越すかも」--ティム・オライリー、伊藤穣一と語る:モバイルチャンネル - CNET Japan
日本初開催となる「Web 2.0 Expo」が11月15日、東京都内で開幕した。ウェブの最新技術と、それ可能にした新しいビジネスについて語られるカンファレンスは、Web 2.0提唱者として知られるO'Reilly Media 創業者でCEOのTIm O'Reilly氏とネオテニー代表取締役社長の伊藤穣一氏の対話セッションでスタートした。 まず、O'Reilly氏が1人で登壇。Web 2.0の定義を振り返ったうえで、「Web 2.0は、その形態はもちろん、ビジネスモデルも、どれだけ多くの人を巻き込んでいるかという点でも、まだ発展途上にある」と付け加え、伊藤氏を壇上に招いた。 2人の対談は、O'Reilly氏がお題を出し、伊藤氏が日本の状況、O'Reilly氏が米国の状況を踏まえた考察を述べるという形式だった。 日本でのWeb 2.0の広まりについて、伊藤氏は「日本もWeb 2.0のトレンドに
ひろゆきがティム・オライリーに直接きいた、「Web2.0ってなんだったの？」
11月14日夜、２ちゃんねる管理人の西村博之氏が、Web2.0の提唱者であるTim O'Reilly氏と初めて顔を合わせた。 Web2.0 EXPOを前日に控えたこの日、IT・コンテンツ産業の発展を目指す「Venture BEAT Project」イベントが都内で開催された。そこにゲストとして招かれていたのが西村氏と、10年ぶりに来日したO'Reilly氏だった。2人はすぐにうち解け、ゆっくりと語り合った。 “Return of the Web” 西村氏：Web 2.0という言葉を作り出したのは3年前？ O'Reilly氏：2003年に最初のアイデアを話し始め、2004年からWeb 2.0カンファレンスを始めた。Web 2.0に関する記事を書いたのは2005年。でもWeb2.0という概念について考え始めたのは10年前くらいから。そのときは違う名前だったけどね。 1997年にオープンソースに
Google「Open Social」公開、SNSに何が起きる？
Googleが、SNS向けソーシャルアプリケーション構築の共通規格「OpenSocial」を公開しました。すでにMySpaceやSix Apartなど多くのユーザーを抱える米国企業が賛同を表明したほか、日本の最大手SNS「mixi」もOpenSocial仕様のAPIを公開する予定であることを明かしています。この規格に沿ってアプリケーションを開発すると、膨大な数のユーザーを獲得するチャンスを得ることになりそうです。一方で、OpenSocialへの参加SNSはプロフィール情報やリンク情報を共通規格のAPIで提供することもできますが、これはSNSをはじめとしたコミュニティサービスの在り方にどのような影響をもたらすのでしょうか、また、それによってユーザーはどのようなメリットを得るのでしょうか。パネリストの皆さんのお考えを聞かせてください。
「ムーアの法則は10年後、15年後に行き詰る」--ムーア氏が指摘
UPDATE サンフランシスコ発--ムーアの法則にはまだ時間は残されているが、われわれはいずれ壁に突き当たる、とIntelの共同設立者の1人であるGordon Moore氏は語る。 Moore氏は米国時間9月18日、当地で開催されているIntel Developer Forum（IDF）の中で質疑応答に応じ、「今から10年後、15年後に、われわれは極めて根本的な問題に直面する」と語った。 問題は、過去40年間に半導体製造は大幅に効率化し、またチップの内部構造も大幅に小型化が進んだため、もはや改善の余地はほとんど残されていないという点だ。Intelが2007年中にリリース予定の45ナノメートルチップには、絶縁体に元素ハフニウムが採用されている。 Intelはこれまで、絶縁層を他の素材で作ってきた。しかし、今やそれらの絶縁層は5分子層ほどの薄さだ。「1分子層以上に薄くすることは不可能であり、5
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