事業領域 私たちは、社会課題を起点として、その解決のために何ができるか、という発想でビジネスを展開しています。
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ナノインプリントの発展と今後の展望 平 井 義 彦 大阪府立大学 大学院工学研究科(〒 599-8531 大阪府堺市中区学園町 1-1) Progress and Future View of Nanoimprint Technology Yoshihiko HIRAI Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University(1-1, Gakuen-cho, Naka-ku, Sakai-shi, Osaka 599-8531) :Nanoimprint,Resolution,Lithography,Nano Fabrication 1 はじめに ナノ加工技術として工業的に広く用いられている技術に, 写真製版技術から発展した半導体リソグラフィ技術がある。 電子デバイスの製造のみならず,マイクロマシンやディスプ レイ素子などの
セイコーエプソンは07年3月27日、世界最高クラスの歪み量を実現した圧電素子となる薄膜ピエゾを独自に開発し、アクチュエータとして使用した新世代のマイクロ・ピエゾ・ヘッドを開発、07年4月より量産を開始する、と発表した。マイクロ・ピエゾ・ヘッドは、ピエゾ素子を電圧によって変形させ、物理的な圧力を加えてインクを吐き出させるエプソンが独自に開発したインク・ジェット・ヘッドである。カラリオおよびマックスアートのブランドで販売されているエプソンのインク・ジェット・プリンタはこのマイクロ・ピエゾ・ヘッドを搭載している。また印刷や生産プロセスのなかで、少量プリントにも適し、環境にも配慮できるインク・ジェット方式のメリットが注目され、DPE写真プリント、デジタル印刷、カラー・フィルタ製造などで活用されている。新開発のマイクロ・ピエゾ・ヘッドは(1)薄膜化・材料開発による世界最高クラスの歪み量を誇るピエゾの
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