4月7日 発表 株式会社富士通研究所は7日、HDDのディスク潤滑剤に含まれる分子の高さを制御し、従来の70%以下に抑える技術を開発したと発表した。同社は、2010年以降に1Tbit/平方インチという記録密度を実現するHDDに向けて、同技術の実用を目指す。 現行のHDDのディスクと、データの読み書きを行なう磁気ヘッドとの隙間は約10nmだが、今回の新技術を採用した潤滑剤を用いることで、さらにディスクと磁気ヘッドの距離を縮めることが可能になり、ディスクの高密度化、大容量化を実現できる。 HDDのディスク媒体は、表面から順に、高さ約2nmの潤滑膜、5nm以下の保護膜、磁性層という構成で、現行のHDDでは保護膜から磁気ヘッドの間隔が約10nmとなっている。これは、磁気ヘッドをジャンボジェット機に例えると、地表の0.6mm上を浮上するのに相当するという。 ディスクの記録密度を高めるためには、磁気ヘッ