世界最先端の半導体製造に用いられる機器は近代工学の奇跡と言える。極端紫外線(EUV)露光装置は人間の目では捉えられない非常に短い波長の光を用いてシリコンウエハーの表面に微細な回路パターンを焼き付ける。10万個の部品で構成され、価格は1億5000万ドル(約205億円)を超えるこの装置を製造しているのは世界でオランダのASMLホールディング1社のみだ。 EUV露光装置は、半導体の小型化・高性能化・省電力化の追求が製造プロセスを一段と複雑かつエネルギー集約的にしている状況も浮き彫りにする。同装置の定格消費電力は約1メガワットと、一世代前の装置の約10倍に増加した。最先端半導体製造でこれに代わる装置がないため、半導体業界は炭素排出削減を目指す世界的取り組みの大きな障害になる可能性がある。 EUV露光装置を最も多く導入しているのは半導体受託生産世界最大手の台湾積体電路製造(TSMC)だ。同装置を80