マイコミジャーナル|AMAT、22nmプロセス以降の半導体向けに原子レベルの薄膜処理装置を発表

check_genpatsucheck_genpatsu のブックマーク 2011/12/01 16:47

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AMAT、22nmプロセス以降の半導体向けに原子レベルの薄膜処理装置を発表

    Applied Materials(AMAT)は、半導体配線工程(BEOL)向け薄膜処理装置「Applied Producer Onyx」を発表した。半導体の配線の絶縁に用いるlow-k膜の分子構造を最適化し、22nm世代以降におけるロジックデバイスの高速...

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