日本でEUV露光装置の導入が進む中、ASMLはサポート体制を強化する(EUVを製造するクリーンルーム。同社提供) 半導体露光装置大手の蘭ASMLは日本法人の人員を2026年末までに現在の約1・5倍となる約600人規模まで増やす計画だ。24年中にはラピダス(東京都千代田区)が北海道のパイロットラインに、日本で初めて極端紫外線(EUV)露光装置を導入。25年には米マイクロン・テクノロジーも広島県内の工場に導入する計画。先端半導体の製造に不可欠な同装置の技術支援体制を強化し、日本における先端半導体の安定供給を後押しする。 ASMLの日本法人はキオクシアやソニーグループ、台湾積体電路製造(TSMC)子会社のJASM(熊本県菊陽町)など、半導体工場がある地域に拠点を構える。9月には、ラピダスが工場を建設する北海道千歳市にも進出を予定し、全国8カ所に拠点を持つことになる。 ASMLが人員強化に動く背景
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