東京大学(東大)と北海道大学(北大)は9月8日、「赤外多角入射分解分光法」を用いて、これまで研究が困難であった「超高真空・極低温で作製したアモルファス薄膜」の分子構造を調べる方法を開発したと共同で発表した。 同成果は、東大大学院総合文化研究科附属先進科学研究機構の羽馬哲也 准教授、京都大学化学研究所の長谷川健 教授、北海道大学低温科学研究所の渡部直樹 教授、同・香内晃 教授らの共同研究チームによるもの。詳細は、「The Journal of Physical Chemistry Letters」オンライン版に掲載された。 真空中に設置した基板を10K(-263℃)の極低温にすると、水や窒素、酸素などが分子間力によって吸着し、特徴的な電気的性質を有する「分子性固体」の薄膜が形成される。H2O、CO、N2O、NH3などの極性分子のガスを蒸着させて薄膜を作製した場合、表面の電位が上昇するというも