仏CEA(原子力および代替エネルギー庁)付属の国立研究機関Leti(Laboratoire d'électronique des technologies de l'information:電子情報技術研究所)は、CEAとフランスUniversity Grenoble Alpesが共同設立した基礎科学研究機関であるInac(Institut Nanosciences et Cryogénie)と共同で、将来の量子コンピュータの基本要素である量子ビットをCMOSプロセスの製造ラインで大量生産できる、基本的なプロセス技術を開発したと3月20日(欧州時間)に発表した。 高純度同位体28Si薄膜を300mmウェハ上に成長 研究チームは、Letiがグルノーブルに所有する300mmシリコンウェハを用いたCMOSデバイス試作ラインにて、CVD(化学的気相成長)によって分離精製された高純度同位体28Siの
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