Kasumi YOSHINO/JA1UMI on Twitter: "最近のIC型番のレーザー刻印があまりにも読み辛いので、前にTLかBlogで見かけた修正液を塗ってから無水アルコールで拭き取ると、微細な隙間に修正液が入り込んで文字が白く浮かび上がるというライフハックを決めたところ。左は処理前、右は… https://t.co/cdqnQaFDRF"最近のIC型番のレーザー刻印があまりにも読み辛いので、前にTLかBlogで見かけた修正液を塗ってから無水アルコールで拭き取ると、微細な隙間に修正液が入り込んで文字が白く浮かび上がるというライフハックを決めたところ。左は処理前、右は… https://t.co/cdqnQaFDRF
化学者のためのエレクトロニクス講座~フォトレジスト編 | Chem-Station (ケムステ)
このシリーズでは、化学者のためのエレクトロニクス講座では半導体やその配線技術、フォトレジストやOLEDなど、エレクトロニクス産業で活躍する化学や材料のトピックスを詳しく掘り下げて紹介します。今回は、現代にいたるフォトレジストの歩みについて触れていきます。 初期のゴム系レジスト フォトリソグラフィ技術の黎明は、1955年、ベル研究所のJules AndrusとWalter L. Bondによって開発されたものに遡ります。これは写真技術を応用したもので、写真用品で著名なEastman Kodak社のKPR(Kodak Photoresist)が使われました。KPRはゴムに感光材を添加することで露光により架橋するもので、基板との密着性を優先させたものでした。しかしながら、フォトマスクがレジストと密着するコンタクト露光方式のため、マスクの解像度がレジストの解像度を規定してしまう点など、微細加工には
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