nMOSトランジスタとpMOSトランジスタ 下図はnMOSトランジスタを模式的に表したものである。 ゲート部はMetal(導電体)- Oxide(酸化膜)- Semiconductor(半導体) という構造をとっており,この頭文字をとってMOSと呼ばれる。 通常の状態ではソース-ドレイン間に電流は流れないが、ゲートにある閾値以上の正電圧を加えた場合、ゲート直下のp型領域に電子が集まり、キャリアの通り道(チャネル)が形成され、ソース-ドレイン間に電流が流れる。 ここで,上図のようにn型のチャネル(多数キャリア:電子)が形成されるMOSトランジスタを「nMOSトランジスタ」、逆にp型のチャネル(多数キャリア:正孔)が形成されるMOSトランジスタを「pMOSトランジスタ」という。 下図はnMOSとpMOSの、デジタル回路における性質を表したものである。 デジタル回路では、nMOSは「ゲートにHを
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