軍事大国化が「日本の選択」 岸田首相、タイム誌表紙に ｜ 共同通信
Published 2023/05/11 09:01 (JST) Updated 2023/05/12 00:01 (JST) 【ニューヨーク共同】米誌タイムは10日までに、岸田文雄首相を表紙に掲載した次号（12日発売）の内容を一部公開した。「日本の選択」と題し、岸田氏が「長年の平和主義を捨て去り、自国を真の軍事大国にすることを望んでいる」と紹介した。 記事では岸田氏が19～21日の先進7カ国首脳会議（G7広島サミット）で、中国やロシア、北朝鮮といった国々に立ち向かうため民主主義国の団結を狙うと説明。防衛費の増額で「世界3位の経済大国に見合った軍事的影響力を持つ国にしようとしている」とした。 一方で「核兵器のない世界」を目指す岸田氏の理念と防衛力強化が矛盾するとの意見があると指摘した。
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キヤノンが10年越しで開発､｢究極｣の半導体露光
特集「半導体 次なる絶頂」の他の記事を読む 半導体にはナノ（10億分の1）メートル単位の電子回路が刻まれている。回路の線幅が微細なほど、半導体のチップ面積当たりの性能が上がる。その回路を描く「究極の技術」とされるのが、キヤノンが開発の最先端をいく「ナノインプリントリソグラフィ」だ。 回路を描く主流の方法は、大きなガラス板の原版に描いた回路を、高性能なレンズを介してシリコンウェハーと呼ばれるシリコンの板に縮小・投影、波長の短い光で焼き付けるやり方だ。このようにして回路を刻む装置が「半導体露光装置」と言われる。 2000年代まで半導体露光装置は、キヤノンとニコンの日本の2社が合計で約8割の世界シェアを握っていた。しかし現在は、オランダのASMLが一強の状態。EUV（極端紫外線）を使って超微細な回路が描ける露光装置を世界で唯一提供しており、1社で市場シェア8割を握る。 EUV露光装置の開発には多
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