半導体の世界大手キオクシア工場の排水口から、国の暫定指針値の2・6倍もの有機フッ素化合物(PFAS)が検出されたことが大きな問題になっています。同工場は929億円の国の補助金を受けます。巨額の国費が投じられる半導体企業がPFASの汚染源になっている可能性があります。(日隈広志) キオクシアは、「フラッシュメモリー」など情報記憶の半導体メモリーの売り上げで国内最大手。その主力の三重県四日市工場は、住宅地に隣接した丘陵部に東京ドーム15個分の敷地を構え、生産量でも世界有数の半導体製造拠点です。 住民らでつくる「四日市公災害市民ネット」が昨年9月から11月に市内の河川など26カ所を調査した結果、キオクシア工場と河川をつなぐ排水口から、規制対象物質のPFOAとPFOSの合算値で1リットルあたり125・93ナノグラムを検出。指針値の2・6倍になりました。また、キオクシアが排水を流している地下雨水管の
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