最近の半導体露光装置とEUV・ナノインプリントの補足 - ほぼ週二 横浜の山の中通信初めにお断りしますが、半導体露光装置の業界は特殊です。メーカーはASML、ニコン、キヤノンの3社しか存在しないし、現在EUV露光装置を提供しているのはASMLのみ。顧客も限られており、液浸露光装置（一台数十億円）に比べて高価なEUV露光装置（一台100億円とか？）を導入できるメーカーは、アメリカのIntel、台湾のTSMC、韓国のサムスン（Intel・TSMCは記事あり。サムスンの記事は見ていないが多分導入している）くらいにあと二・三社と少数。こういう商売をしているので、EUV露光装置に関する情報を敢えて一般に公表するメリットはほとんど無く、これらの会社の関係者が外部に発表するわずかな情報だけです。したがって本当のところはなかなかわかりません。というわけで、初めに言い訳です。 今回は3月初旬にブログに来たコメントへの回答と補足です。本日もコメントが来ていますがその通りです。 前の記事は以下
