Intelが超微細プロセスの量産に対応する高NA EUV露光装置をASMLに発注
IntelとASMLは1月19日(現地時間)、IntelがASMLの現行の開口率NA=0.33のEUV露光装置の次世代機となるNA=0.55の高NA EUV露光装置の量産対応機「TWINSCAN EXE:5200」の購入に向けた最初の発注を行ったことを明らかにした。 ASMLは2021年の投資家向けイベントにおいて、EUVのロードマップを披露し、2025年には高NA EUV露光装置を量産現場で活用できるようにすると述べていたが、今回のIntelとの発表はこのロードマップに一致したものとされる。 ASMLプレジデント兼 CTOのMartin van den Brink氏は、「IntelのビジョンとASMLの高NA EUVテクノロジーへの早期の取り組みは、両社がムーアの法則を絶え間なく追求している証拠である。現在のEUV露光装置と比較して、開発中の高NA EUV露光装置は、複雑さ、コスト、サイ
10nmはハイパースケーリングを放棄し再設計 インテル CPUロードマップ (1/3)
10nmプロセス壊滅の報道に インテルが敏感に反応 前回お約束したとおり、今回はインテルの10nmプロセスの話をしよう。少し前の話になるが、10月22日にSemiAccurateで“Intel kills off the 10nm process”という記事が出た。 この記事の是非はともかくとして、それが話題になったのはむしろインテルの反応であった。インテルの公式Twitterアカウントの一つであるIntel News(@intelnews)が、この記事が出るや否や直ちに「記事は正しくない。我々の10nmプロセスは順調であり、歩留まりは前回の投資家向けレポートで説明したように改善している」と反論を公開。 Media reports published today that Intel is ending work on the 10nm process are untrue. We are
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インテル入ってない：アームが半導体巨人を倒すまで
