スパッタリングとは？
スパッタリングとは、真空中に不活性ガス（主にArガス）を導入しながら基板とターゲット（成膜させる物質Cr・Ti等）間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをターゲットに衝突させて、はじき飛ばされたターゲット物質を基板に成膜させる方法です。 また、Arガスと共に微量のO2・N2ガスを入れることにより、反応性スパッタリング（ITO・TiN等）を行うことができます。 Sputtering is the amount of direct current voltage between a base andtargets (material Cr / Ti )while introducing non-active gas (mainly, Ar gas) in a vacuum, Ar which ionized collide with a target,It is a method to le
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1 :以下、名無しにかわりましてVIPがお送りします:2011/02/12(土) 22:05:49.02 ID:3jM4WOJiP
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