川野研究室の紹介 分子流・プラズマ流の数理と応用 -ナノデバイスから医療応用まで- 分子流やプラズマ流における新しい数理物理モデルの構築と生命・環境・宇宙科学への応用に関する研究を行っています。 従来のナヴィエ・ストークス方程式に基づく流体力学理論のみでは取り扱いが困難であったマイクロ・ナノ混相流、イオン電流、非平衡気体流、生体流等の機能性を理論と実験の両面から探求します。 バイオ・ナノ流動のマルチスケール・マルチフィジックス理論展開、次世代電池の数値設計法、超微小医療デバイス創成および惑星大気分析法の考案等を通じ、学術のさらなる深化と社会貢献を目指します。 お知らせ 日本学術振興会「我が国における学術研究課題の最前線」 に当グループの研究プロジェクト(基盤研究S)が紹介されました。 村崎研・吉川研・川野研合同同窓会のご報告と御礼 村崎研・吉川研・川野研合同同窓会の写真
2008/12/03 ガスクラスターによる高速異方性エッチング、平坦化加工技術を開発 ~京大と共同開発。プラズマレスで低ダメージエッチング、Si深堀エッチング加工を実現~ 岩谷産業株式会社 京都大学松尾准教授と岩谷産業株式会社(本社:大阪・東京、社長:牧野明次、資本金200億円)は共同で、プラズマレスで半導体やMEMS向け高速異方性エッチングや平坦化加工を実現する「ClF3ガスクラスターエッチング」技術を開発した。 ■本技術の原理 本技術は、ガスを事前に放電させずに、基板に吹き付けて異方性加工を実現するという画期的なものである。具体的には、ClF3(三フッ化塩素)ガスをノズルから真空チャンバーに吹き込むことで急激に断熱膨張させ、反応性ガスの分子・原子をクラスターと呼ばれる大きな集合体(数百から数万個の塊)にして基板に吹き付けたところ、室温下でも十分な異方性加工ができる結果を得た。クラスター
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