原子力機構がシリコン酸化膜の成長メカニズム解明 ニュースイッチ by 日刊工業新聞社
日本原子力研究開発機構の吉越章隆研究主幹らは、半導体産業を支えるシリコンの酸化膜が成長する機構を明らかにした。大型放射光施設「スプリングエイト（ＳＰｒｉｎｇ―８）」の高輝度放射光を使い、リアルタイムに反応を追跡した。酸化膜とシリコン基板の界面にある欠陥で酸素分子が反応する時に、電気の伝導に寄与する電子や正孔などが関与することが分かった。半導体デバイスの省電力化や小型化、信頼性向上につながる。 東北大学と福井工業高等専門学校などとの共同研究。成果は、物理化学系の米科学誌電子版に掲載された。実用化に向け、企業と共同研究したい考え。 高輝度放射光でリアルタイム追跡 これまでに酸化膜とシリコン基板の界面にある欠陥で酸素分子が反応することを解明した。詳細な反応機構を調べるために放射光を使ってリアルタイムで測定すると、欠陥に電子や正孔などが結び付いて化学反応しやすい状態となることが分かった。反応しやす
成熟の「放射光計測」、ＡＩと自動化で生む次の付加価値 ニュースイッチ by 日刊工業新聞社
巨大な加速器を運用する放射光計測と研究室の分析機器を結ぶ技術開発が進んでいる。放射光施設で大視野を撮影し、人工知能（ＡＩ）技術でパターンを見つけ、重要な部分を研究室の電子顕微鏡で押さえる。高エネルギー加速器研究機構（ＫＥＫ）の小野寛太特別教授・大阪大学教授は放射光計測をクラウドサービスのような便利なツールに変えるための研究を進める。日本の研究開発型産業を支えるインフラを作る挑戦だ。 「放射光計測は成熟した。次の付加価値をＡＩと自動化を組み合わせて生み出したい」と小野教授は説明する。高エネ研のフォトンファクトリーは稼働開始から４０年。理化学研究所のＳＰｒｉｎｇ－８は２５年が経過した。この間、装置の改良を重ね、物質科学や生命科学に欠かせない計測手法となった。 ただ放射光施設に試料を持ち込み数日かけて計測し、得られた巨大なデータを数カ月かけて解析するという研究風景は変わっていない。これを郵送で試
TSMCの熊本進出決定はAppleの要請によるもの、台湾メディア報道
TSMCの魏哲家(C.C.Wei)・最高経営責任者(CEO)が12月17日に台湾で開催された「The New Challenges in the Semiconductor Industryフォーラム」(主催:Mount Jade Global Science and Technology Association)で講演し、日本に工場を建設する理由について、「当社の重要なサポートしなければならない顧客が日本におり、またその顧客は、当社の重要な顧客のサプライヤでもある」と述べたと台湾の複数メディアが報じている。 魏氏は具体的に企業名を出さなかったが、重要な顧客とは米アップル(Apple)で、そのAppleをサポートしなければならない顧客とはソニー(Sony)を指しているものと見られる。 TSMCの日本進出の背景にAppleの要請 同氏は、「日本は低コストで製造できる場所ではない」としつつも、
激動の2022年を振り返る(後編) - 吉川明日論の半導体放談(247)
2022年振り返りの後編である。世界経済は全体的に後退に向かいつつある。その中で、昨年まで供給不足だった半導体は不況に転じ、昨年までのコロナ禍の影響を受けずに成長を続けた巨大ITプラットフォーマーにも優劣が現れ始めた。業界をひとまとめに語れない多様化の時代を象徴しているかのようだ。 不調が続くIntel、躍進するAMD、Arm買収に失敗もAI分野で実力を見せ付けるNVIDIA 半導体業界で私が常に注目するAMD、Intel、NVIDIAの3社は総じて半導体の下降サイクルの影響を大きく受けたが、各社の様相は全く異なる。はっきりとした明暗が付いたのがAMDとIntelである。AMDのOBとしてはうれしい限りだが、躍進するAMDと、長期化するIntelの不調は今年の決算を見るとそのコントラストが非常に色濃い。 マクロ経済の影響を受けて、PC向けCPUのビジネスは両社とも大きく減速したが、明暗を分
高輝度放射光を用い、Si酸化膜の成長過程を解明
日本原子力研究開発機構（原子力機構）と東北大学、福井工業高等専門学校（福井高専）の研究グループは、高輝度放射光を用いてシリコン（Si）酸化膜の成長過程を観察し、Si酸化膜反応に電子や正孔といったキャリアが関与していることを発見した。 酸化ハフニウムなどhigh-k材料を利用したデバイス作製にも有用 日本原子力研究開発機構（原子力機構）と東北大学、福井工業高等専門学校（福井高専）の研究グループは2022年12月、高輝度放射光を用いてシリコン（Si）酸化膜の成長過程を観察し、Si酸化膜反応に電子や正孔といったキャリアが関与していることを発見したと発表した。 Si基板上にトランジスタを作製する時、ゲート絶縁膜として厚みが約1nmレベルの酸化膜を作り込む必要がある。この酸化膜に欠陥があると、消費電力が増加したり、誤動作を引き起こしたりする可能性がある。このため、良質な酸化膜を作製する必要がある。し
低消費電力で高速な推論を実現する組み込みAIチップ
ルネサス エレクトロニクス（以下、ルネサス）は2022年12月8日、NEDOのプロジェクトにおいて、従来技術に比べて最大10倍の電力効率を実現したAI（人工知能）チップを開発したと発表した。 ルネサス エレクトロニクス（以下、ルネサス）は2022年12月8日、NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）が進める「高効率・高速処理を可能とするAIチップ・次世代コンピューティングの技術開発」プロジェクトにおいて、従来技術に比べて最大10倍の電力効率を実現したAI（人工知能）チップを開発したと発表した。 今回開発したAIチップは、ルネサス独自のDRP（動的再構成プロセッサ）をベースにしたもの。DRPは、チップ内の演算器の回路情報を処理内容に応じて動的に切り替えながら、必要な回路だけを動作させる技術である。ルネサスのIoT・インフラ事業本部 エンタープライズ・インフラ・ソリューション事業部で主幹
独自のAI技術を開発。「搬送・検査」の自動化を実現したMusashi AIの取り組み━━代表取締役 村田宗太 | Musashi BLOG | 武蔵精密工業株式会社
村田 宗太 工機事業部の技術者として、2006年8月に武蔵精密工業へ入社。これまで手動で行われていた製造現場の作業を自動化させるため、技術者としてプログラミング業務などに従事。2015年に工機事業部のチーフへ昇格。2018年にAI Projectのリーダーに任命された後、2019年にMusashi AIの代表取締役に就任。 私はこれまでムサシの技術者として、生産現場の「自動化」を進めてきました。入社当時の15年以上前は作業工程の多くが手動で、生産性の面でも効率化が大きな課題でした。 この問題を解決するために活用したのがロボットです。私は主に「ピッキング・材料投入」「組み立て」「加工・搬送」「検査」の分野で自動化を図ってきました。 「インライン画像検査」についても、AI技術の実用化が困難だった当時でも、作業基準書にて明確な検査基準（閾値）が設けられている場合は自動化を進められたのです。 そう
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