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2006年3月27日のブックマーク (7件)

  • 大日本スクリーンが業績予想を上方修正,「メーカーの投資は予想以上」

    大日スクリーン製造は,2005年度通期(2005年4月~2006年3月)の業績予想を上方修正した。前回予想では2400億円としていた連結売上高は2440億円(対前年度比9.4%減)へ,140億円としていた経常利益は160億円(同25.8%減)へ,125億円としていた純利益は142億円(同1.8%減)へ,それぞれ修正している。修正の理由について同社は「半導体メーカー,液晶パネル・メーカーの設備投資が予想以上に活発に推移しているため」と説明する。 同社は同時に,2008年度に連結売上高3000億円超を目指す3カ年の経営計画を発表した。営業利益率は10%以上を目標に据える。目標達成に向けて同社は洛西事業所(京都府京都市)に総工費約8億円をかけて技術開発拠点「ホワイトカンバス洛西」を開設。これまでは各地に点在していた開発人員を同拠点に集約し,2006年4月1日に同拠点での業務を始める。また,滋賀

    大日本スクリーンが業績予想を上方修正,「メーカーの投資は予想以上」
  • 岩谷産業,液体水素などを製造する新会社が本格稼働と発表

    岩谷産業は,液体水素や空気分離ガスを製造するハイドロエッジ(大阪市)が2006年4月1日に営業運転を始めると発表した。ハイドロエッジは,岩谷産業と関西電力グループの堺LNG(大阪府堺市)の合弁で2004年に設立した会社。2005年11月から試験運転をしていた。 ハイドロエッジのプラントでは,LNGの-163℃の冷熱を利用して,空気から窒素や酸素,アルゴンといったガスを分離する。1時間当たりの生産量は,液体酸素が4000Nm3,液体窒素が1万2100Nm3,液体アルゴンが150Nm3。 さらに,上記のプラントで生産する液体窒素の冷熱も使う。天然ガスから水蒸気改質して得たガス状の水素を,この-196℃の冷熱で冷やして液体水素を生成。液体水素の製造設備と空気分離ガス製造設備のそれぞれで,1時間当たりに3000Lを生産できる。このように,液体水素プラントと空気分離ガスプラントを併設し,二つ

    岩谷産業,液体水素などを製造する新会社が本格稼働と発表
  • 国内最大規模の液体水素プラントが営業運転開始 - ニュース - nikkei BPnet

    窒素、酸素、アルゴン、水素の製造・販売を手掛けるハイドロエッジ(社:大阪市)は4月1日、営業運転を開始する。 同社は岩谷産業と関西電力グループの堺LNGの合弁で2004年4月に設立された。以後、100億円強を投じて生産設備の建設を進めてきた。 プラントでは、液化天然ガス(LNG)の冷熱を利用し、空気から効率的に窒素、酸素、アルゴンの産業用ガスを分離・製造する。さらに、そこで生産される液体窒素の冷熱を寒冷源として利用し、原料である天然ガスから水蒸気改質して得たガス水素を液体水素にする。 液体水素プラントに併設して空気分離ガスプラントを設置し、2つのプロセスを組み合わせて水素を液化するのはわが国で初めて。この新しい方式により、消費電力を削減し、コスト力の高い液体水素を製造することができる。製造規模も、1時間当たり3000l×2系列と国内最大規模を誇る。 液体水素は宇宙航空研究開発機構への供給

  • http://japan.internet.com/wmnews/20060327/6.html?rss

  • インテル、「Itanium」での失敗を認める--将来予想はあくまで強気

    カリフォルニア州サンタクララ発--Intelの経営幹部は米国時間23日、「Itanium」に関する重要な問題を認識していると述べたうえで、同社はこのハイエンドのチップ系統の未来を輝かせるための投資を増やしていると発言した。 「売上高の数字、計画の遅延、そして打ち切りとなったプロジェクトのいずれについても不満である」とIntelのDigital Enterprise GroupのシニアバイスプレジデントPat Gelsinger氏は述べている。 しかし同時にItaniumサーバの売上は、「Sun Sparc」サーバの売上の半分以上、そして「IBM Power」サーバの売上の3分の1に達した。また、新たな顧客が加わり、コンピューティング技術供給業者Electronic Data Systemsなどとの間で重要な提携が取り交わされたりしている。「気分が良いか悪いかと聞かれれば、答えはその両方であ

    インテル、「Itanium」での失敗を認める--将来予想はあくまで強気
  • 組み込み開発フォーラム - MONOist

    世界各国でAI関連規制の整備が進む中で、AIシステムの開発に求められるのが「検証(Verification)」と「妥当性確認(Validation)」から成る「V&Vプロセス」である。特に、自動車や航空宇宙の分野を中心に高い安全性や高い信頼性が重視されるセーフティクリティカルなシステムにAIを導入する際に重要な役割を果たすとみられている。

  • IRPS:国際信頼性シンポジウム前日レポート

    会期:3月26日~30日(現地時間) 会場:米San Jose McEnery Convention Center マイクロプロセッサ(CPU)やフラッシュメモリ、DRAMなどの半導体デバイスは故障したり、誤動作したりすることがある。故障や誤動作などの不良が起こる原因はさまざまだが、物理的な現象が原因であることは少なくない。そこで、故障や誤動作などの不良を起こす物理的な要因を開発段階で探索し、製造後に不良が起こらないように設計内容や製造工程などを改良する。あるいは電子機器に組み込まれてから不良を起こした半導体デバイスを調べ、不良の原因を発見し、対策を打つ。半導体メーカーでは日々、こういった作業が行なわれている。 個々の半導体メーカーが得た不良に関する知識や経験などは、産業界で共有することが非常に重要である。ある半導体メーカー(A社)の半導体製品が、不良モードの原因が物理的な現象であった場合