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半導体に関するreffi222のブックマーク (1)

  • 10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか

    10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか:湯之上隆のナノフォーカス(9)(1/5 ページ) Intelは2016年以降、今日に至るまで、10nmプロセスを立ち上げることができていない。一方で、配線ピッチは同等であるはずの、TSMCとSamsung Electronicsの7nmプロセスは計画通りに進んでいる。ではなぜ、Intelは10nmプロセスの立ち上げに苦戦しているのだろうか。 Intelは2016年以降、今日に至るまで、10nmプロセスを立ち上げることができていない。それが原因となって、メモリ不況を引き起していると考えている(関連記事:「Intel 10nmプロセスの遅れが引き起こしたメモリ不況」(2018年12月7日))。その概略は、以下の通りである。 Intelでは最先端の微細加工プロセスでPC用プロセッサを量産し、1世代遅れたプロセスでサーバ用プロセスを

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